日立分析仪器的新型OE750 OES光谱仪在同类产品中具有开创性。其具备昂贵仪器所拥有的高性能,例如,其可分析金属中所有含量非常低ppm的元素。


但其如何实现以优惠亲民的购买价格提供高性能?日立如何降低光谱仪的运行成本?一切答案都归因于科技:


创新的光学系统设计提高性能,并缩短启动时间

光学系统是OE750操作的核心,当前正针对这一新光学概念申请四项专利,其可为光谱仪提供同类产品中的最佳光学分辨率。此技术可确保检测所需的一切事物,即使在超低限值的情况下亦可进行检测。OE750内的光学系统配置经过彻底的重新设计。外壳体积相对较小,从而缩短启动时间,确保仪器可更快地被使用。日立已纳入更多检测器,并将其放在单焦平面上;这一设计能提供优质的分辨率,并能清晰显示结果。最后,检测器本身已经过升级,将在下文进行相关介绍。


先进的检测器技术成本更低,但性能更好

降低光谱仪成本,但仍可提高性能的关键之处在于检测器本身。日立已使用新型CMOS芯片代替旧款CCD检测器。CMOS芯片具有更高的分辨率和改进的像素尺寸,以及更高的动态范围。仅使用一个镀膜传感器便可完成通常情况下需要几个CCD传感器才能完成的工作。由此,光谱仪成本有所降低,但与较昂贵的仪器具有同等的高性能。在低检出限的稳定性方面,CMOS检测器也优于旧款CCD检测器,这正是分析ppm含量范围内的金属时所需实现的目标。


低压力氩气净化降低运行成本,减少维护

标准OES仪器的一个问题是,对于低于200nm的波长,其光强会随时间推移而减弱,从而导致一些分析分辨率不足。日立已通过开发中压力氩气净化环境(一种真空技术和低压力氩气净化的独特组合)完全克服此问题,即使在150nm以下的波长情况下也可提高稳定性和强度。该系统能减少所需氩气量,并允许使用仅在某些时候才可被使用的无油泵。泵的功耗降低,而维护和校准间隔大幅增加,从而增加仪器的可用性,并降低运行成本。


改进火花光源,以提高效率和稳定性

日立也重新设计了火花光源。旧款光谱仪的此部件耗用大量功率以产生火花,且电源的任何波动均会改变火花特性,从而可能影响结果可靠性。日立进行创新,设计了开创性的OE750。通过提高火花源的效率,实现耗用较少功率和产生较少热量的目标。此款光谱仪中还新添了能提高火花可靠性和再现性的功能,例如,24V直流电源将火花与本地电源电压隔离,以使本地电源的波动不会影响光谱仪的性能。


新密封火花台改进检出限,并减少维护

在新设计中,火花台和光学系统实质上是一个密封单元。这是在最宽波长范围内获得一致低检出限和最佳性能的最佳方法。这是金属中气体分析的强制性要求,例如,钢铁中的氮元素的检出限为10ppm。密封单元设计确保空气和微粒无法进入火花台和光学系统区域,从而最大限度减少分析干扰。同时入射狭缝和透镜之间的距离非常短,从而大幅改善光耦合。外壳专为透镜周围氩气的最优层流而设,再次减少所需氩气量。此外,密封单元能减少维护需求,确保获得更长的正常运行时间和更好的结果。


无需降低性能标准

此性能可确保符合严格规范,检测废料中的杂质和痕量元素,并以当今金属行业要求的超低限值验证来料。

(文摘摘至日立分析仪器微信公众号推文,版权归作者所有,如有疑问请于我司联系)

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